I. poliravimo miltelių tipai
Poliravimo miltelius paprastai sudaro aliuminio oksidas, silicio oksidas, cirkonio oksidas, cerio oksidas ir kiti ingredientai. Šios medžiagos turi skirtingą kietumą ir skirtingas chemines savybes vandenyje, todėl kiekvienos poliravimo milteliai turi savo specifinę naudojimo progą. Pavyzdžiui, Aliuminio oksido ir cirkonio oksido MOHS kietumas yra net 9, o cerio oksido ir silicio oksido - 7, o geležies oksido kietumas dar mažesnis. Visų pirma, cerio oksidas pasižymi dideliu cheminiu aktyvumu su silikato stiklu, o jo kietumas yra vidutinio sunkumo, todėl jis dažnai plačiai naudojamas stiklo produktų poliravimo procese.
Ii. Pagrindiniai poliravimo miltelių reikalavimai
(1) mikro miltelių dalelių dydis turėtų būti vienodas ir pastovus bei nurodytame diapazone;
(2) didelis grynumas yra būtinas norint užtikrinti, kad nėra mechaninių priemaišų;
(3) geras dispersija padeda užtikrinti vienodą ir efektyvų apdorojimą, o pakabos greitį galima pagerinti pridedant tinkamą disperguojančio kiekį;
(4) miltelių dalelės turėtų turėti tam tikrą grotelių morfologiją, kad jos galėtų susidaryti aštrius kraštus, kai lūžta, taip pagerindami poliravimo efektyvumą;
(5) Tinkamas kietumas ir tankis, taip pat geras drėgnumas ir suspensija su vandeniu yra visos pagrindinės poliravimo miltelių savybės. Be to, poliravimo milteliai, turintys didelę dalelių dydį, turi stipresnę šlifavimo jėgą ir yra labiau tinkami kietesnėms medžiagoms. Tačiau reikia pažymėti, kad visi poliravimo milteliai turi tam tikrų dalelių dydžio pasiskirstymo problemų. Vidutinio dalelių dydžio arba vidutinio skersmens D50 dydis daugiausia turi įtakos poliravimo greičiui, o dalelių dydis DMAX nustato poliravimo tikslumą. Todėl norint pasiekti aukštą - tikslų poliravimo efektą, poliravimo miltelių dalelių dydis turi būti griežtai kontroliuojamas. Įprasti poliravimo milteliai gali sukelti įbrėžimų problemų dėl didelių dalelių. Todėl paprastai rekomenduojama pasirinkti nano poliravimo miltelius su siauromis dalelių dydžio pasiskirstymo diapazonu (. Tuo pačiu metu, kuo smulkesni poliravimo milteliai, tuo ryškesnė bus poliruota medžiaga.
Poliravimo proceso metu srutų koncentracija daro didelę įtaką poliravimo greičiui. Kuo didesnė koncentracija, tuo didesnis poliravimo greitis. Tačiau naudojant mažus - dalelių poliravimo miltelius, srutų koncentraciją reikia tinkamai sumažinti, kad būtų užtikrintas tinkamas sklandumas. Paprastai rekomenduojama kontroliuoti srutų koncentraciją 7–10%diapazone.
3. Poliravimo pelėsio pasirinkimas
Poliravimo proceso metu labai svarbu pasirinkti tinkamą poliravimo formą. Paprastai rekomenduojama naudoti poliravimo formą su minkštesne tekstūra, kad būtų užtikrinta poliravimo efekto kokybė. Verta paminėti, kad daugelis poliuretano poliravimo trinkelių yra sumaišyti su cerio oksido poliravimo milteliais, o šio poliravimo miltelių dalelių dydis tiesiogiai paveiks galutinę poliravimo kokybę. laipsnis. Be abejo, be policinių formų su pridėtais poliravimo milteliais, taip pat yra poliravimo formų, kuriose galima rinktis be poliravimo miltelių, tokių kaip kempinių ratai ir vilnos ratai.
Iv. Rodikliai, turintys įtakos poliravimo miltelių veikimui
Poliravimo miltelių veikimui įtakos turi keli indikatoriai. Pirmiausia poliravimo miltelių dalelių dydis turi būti vienodus ir nurodytame diapazone, kad būtų užtikrintas perdirbimo vienodumas ir efektyvumas. Antra, didelis grynumas yra būtinas norint išvengti mechaninių priemaišų įtakos poliravimo efektui. Be to, geras dispersija, tinkamas kietumas ir tankis, geras drėgnumas ir suspensija su vandeniu yra visi svarbūs veiksniai, darantys įtaką poliravimo miltelių veikimui. Tuo pačiu metu poliravimo milteliai, turintys didelę dalelių dydį, turi stipresnę šlifavimo jėgą ir yra tinkamos kietesnėms medžiagoms, tačiau reikia atkreipti dėmesį į dalelių dydžio pasiskirstymo poveikį poliravimo greičiui ir tikslumui. Galiausiai, srutos koncentracija, ji taip pat paveiks poliravimo greitį ir efektą, ypač kai naudojant mažus - dalelių poliravimo miltelius, srutų koncentraciją reikia tinkamai sureguliuoti, kad būtų išlaikytas tinkamas sklandumas.
1. Miltelių dalelių dydis: dalelių dydis ir vienodumas yra labai svarbūs poliravimo greičiui ir tikslumui. Sirinto akių dydis gali kontroliuoti miltelių dalelių dydį, o vidutinis dalelių dydis atspindi bendrą poliravimo miltelių dalelių lygį.
2. Miltelių kietumas: Milteliai, turintys didesnį kietumą, turi greitesnį pjovimo efektą, o šlifavimo priemonės pridėjimas taip pat gali pagerinti pjovimo efektą. Tačiau reikia pažymėti, kad skirtingi taikymo sritys ir apdorojimo technologijos turi skirtingus kietumo reikalavimus.
3. Miltelių suspensija: gera suspensija yra būtina poliravimo milteliams. Miltelių forma ir dalelių dydis paveiks jo suspensiją. Nano - dalelių poliravimo milteliai šiuo atžvilgiu veikia geriau, todėl nano - poliravimo milteliai dažnai naudojami smulkiam poliravimui.
4. Miltelių kristalų forma: miltelius sudaro aglomeruotos vienkartinės kristalų dalelės, kurios išsiskirs poliravimo proceso metu, darant įtaką pjovimo efektyvumui, miltelių atsparumui ir sklandumui. Sferinės dalelių poliravimo milteliai šiais aspektais geriau veikia.
V. poliravimo diapazono segmentacija:
Įprastos smulkios poliravimo medžiagos rinkoje yra aliuminio oksido poliravimo milteliai, cerio oksido poliravimo milteliai ir silicio oksido poliravimo milteliai ir kt., Kurie vaidina svarbų vaidmenį jų atitinkamuose taikymo laukuose.
1. Aliuminio oksido poliravimo miltelių taikymas:
Aliuminio oksido poliravimo milteliai vaidina svarbų vaidmenį daugelyje laukų. Jis dažnai naudojamas akmens, aliuminio, nerūdijančio plieno, ketaus, titano lydinio poliravimui, taip pat metalografinei analizei, automobilių dažų veidrodžių poliravimui, dervos poliravimui ir brangakmenių poliravimui. Dėl sferinių dalelių charakteristikos dalelių dydis daro tik 0,3um, taip užtikrinant puikų poliravimo efektą.
2. Silicio poliravimo miltelių taikymas:
Silicio poliravimo milteliai, kurių dalelių dydis paprastai yra 50 nm, dažnai naudojami dirbtinių kristalų, brangakmenių ir metalinių produktų poliravimo procese, kad būtų galima suremontuoti jų mažyčius trūkumus.
3. Cerio oksido poliravimo miltelių arba poliravimo skysčio tepimas: Tokio tipo poliravimo milteliai ar poliravimo skystis, pirminės dalelių dydis paprastai kontroliuojamas 20–30 nm, o antrinio dalelių dydis reikalingas norint pasiekti 0,2um, kuris yra labai tinkamas šlifavimo lęšiams ir plokščiam stiklui, televizoriaus vamzdeliams, taurėms, vafliams ir įvairiems optiniams komponentams, optiniams pluoštui, ART stiklui, elektronikos stiklui.